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美国Torr—蒸发/溅射薄膜沉积与刻蚀设备

 美国Torr托尔公司位于美国纽约市,成立于1989年,是专业的薄膜沉积和刻蚀设备制造商。超过25年的设计和制造经验,产品从结构设计到使用的便利性近乎完美。优势的价格征服了世界范围内所有的竞争对手,深受广大用户的欢迎。

-------------------真正买得起的高端产品 -- 科研用户不二的选择----------------

产品系列包括电子束蒸发、热蒸发、磁控溅射、等离子刻蚀、离子束沉积、原子层沉积、PECVDIBE

值得一提的是托尔公司的蒸发、溅射和刻蚀联合系统,集多种功能于一身,加上无以匹敌的价格优势,可以预见在未来几年托尔产品将会不可抗拒的铺向中国的高校和科研市场。托尔公司可以按照客户要求定制各种多功能联合系统。

 

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名称

Electron Beam Evaporation System电子束蒸发系统(以EB-4P为例

特点

完全可定制,结构紧凑,实用,可靠性高,薄膜沉积均匀,粘附性好,沉积速率可严格控制,污染低,具备多轴旋转能力

应用

专为实验室/大学研发或小规模生产设计,适用于在纳米技术、光学、显微镜、MBE、功能性和装饰性涂层等应用中沉积金属、氧化物、磁性材料和电介质等。

基本配置

腔体

电镀抛光不锈钢D型腔体,有4直径带手动挡板的观察窗

坩埚

EB-4P系统有四个水冷坩埚(4cc~75cc),动力源各不相同。

样品台

尺寸大小可定制,可以0-20 rpm 旋转,可加热,配备快门遮挡防止污染

电源类型

配备X-Y扫描控制器的高压电源(3kW15 kW

真空泵

双级涡轮增压式分子真空系统片式真空泵,可以实现基础真空10-6 Torr,极限真空10-7 ~10-8 Torr。

附加装置

带沉积控制器的石英晶体厚度传感器

具有显示和读数功能的全系列真空计测量范围760 ~ 10-9 Torr

控制系统

半自动

可选配置

水冷装置、与样品传送系统相匹配的真空进样室、多轴旋转样品台(尺寸和高度可调)、石英灯加热装置(从300°C800°C)、行星式基台、PLC控制系统、PC控制系统、SQC 310薄膜厚度监测器&沉积控制器、机动快门、大容量坩埚和高功率电源涡旋干泵、低温泵送系统、冷阴极或热阴极电离真空计、额外的备用法兰、带数字读数的质量流量控制器、射频清洗功能、原位掩模更换装置

类似产品

热蒸发系统 :采用电阻加热蒸发源材料,沉积膜层。受蒸发温度、材料熔点及寿命限制,应用有限,成本较低。

CRTECompact Research Thermal EvaporationSystem:研究用小型热蒸发系统。

脚注信息
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