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氧化硅片

尺寸: 1—12英寸;定制尺寸;
晶向:
<100>、<111>、<110>、<211>等和偏角度;
氧化层厚度:
几纳米至几十微米;

表面: 单面、双面氧化;
类型:
N型/掺磷;P型/掺硼;区熔FZ本征高阻;
电阻率:
按客户要求定制;
氧化工艺:
干氧、湿氧、干湿结合、高压氧化、PECVD;
出货速度:
长期备有大量现货,当天出库;
订制能力:
各种参数均可订制;
经营:
国内高质硅片,可提供日本、美国等大厂硅片;
用途: 刻蚀率测定、金属打线测试、电性绝缘层。 

 

  

 

       硅片颜色与氧化层厚度关系表 

 

  第一周期  

  第二周期  

 第三周期  

第四周期  

 

        

  100  Å

   

   

  

  黄褐色  

  300  Å

   

   

   

        

  500  Å

   

   

   

        

  800  Å

   

  

   

        

  1000  Å

  2750  Å

  4650  Å

  6500 Å

  深蓝色  

  1500  Å

  3000  Å

  4900  Å

  6850 Å

绿      

  1850  Å

  3300  Å

  5200  Å

  7200 Å

        

  2100  Å

  3700  Å

  5600  Å

   7500 Å

      

  2250  Å

  4000  Å

  6000  Å

    

        

  2500  Å

  4300  Å

  6250  Å

 

脚注信息
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